GratingMaster® 2018C 版本 发行说明

06/22/2018
  • 新的主要功能:
    1. 直接灰度图像加载2D 堆栈:
      一新特性便于 从DOEMaster 设计进行多层直接导入GratingMaster中
    2. 增加编码中心对称:
      一新对称可以优化中心对称光栅剖面
    3. 优化过程自动保存文件:
      时间2D 光栅优化过程, 这种 自动保存当前文件 防止由于任何事故 (断电)导致 GratingMaster 突然崩溃造成数据丢失
    4.  保持当前光栅轮廓同时, 重新取样/缩放 x y 方向上的 subcells
      5. 实现了辑层量和栅参数表制和贴功能, 可快速方便地有设置复制到他变量。
      6. 改进了像导出功能, subcells 间的充因子比率。
      7. 切换到 Windows 助文件系统,便用户现在可以搜索特定的题。
      8. 改进英文中文手册 PDF 版本, 所有深色背景图像更改浅色背景图像
  • 主要改进功能:
    1. 欢迎页面增强: 现在用户可以点击教程, 示例欢迎页面手动按钮直接打开各自折叠/文件
    2. 图层上下文 菜单添加切换开关, 切换工具提示信息/于有subcells 的2D 说非常有用。
    3. 在 “果树 项卡上可多选除已存的果, 速删除不要的果。
      4. 更改将衍射角计算结果自动保存到 “结果树” 选项卡为提示用户保存角度计算结果。
  • Bug 修复

GratingMaster® 2018B版本 发行说明

01/26/2018

 

  • 新的主要功能:
    1. 动态链接到 Zemax
      作为 Zemax 用户定义的曲面 (UDS) 实现的动态 Zemax 链接使 Zemax 用户能够直接、严格地模拟和设计1D 光栅。GratingMaster 是市场上唯一有这种能力的产品。
    2. 涂层倾斜光栅的仿真与设计:
      这一新的特点, 涂层光栅的 GratingMaster 用户能够模拟和设计涂层倾斜1D 光栅。
    3. 多级二维光栅:
      在 GratingMaster 2018b 中实现了两种类型的多级二维光栅。一个是基于材料介质编码, 另一个是基于多项式编码。
    4. 添加了两种新的多项式编码:
      增加了两种新的多项式编码。它们是通用多项式和勒让德(Legendre)多项式。采用此新的“通用二进制2” (General Binary 2) 编码方法, 可以设计和优化在Meta-表面应用的纳米棒等圆形柱形截面。
  • 主要改进功能:
    1. 增强了 GratingMaster 的公差和扫描特性。现在, GratingMaster 可以同时扫描多达四参数 (最多两个源参数和两个光栅参数)。用户可以检查多达六维的光栅性能数据与线, 图像和轮廓/填充轮廓图。
    2. 级数可视化工具现在可以混合反射级数和透射级数。
    3. 中文 PDF 版本的 GratingMaster 手册。
  • Bug 修复

GratingMaster® 2018a版本 发行说明

11/5/2017
  • 新的主要功能:
    1. 体光栅的仿真与设计:
      1. 新增加的体光栅功能 可以很容易模拟和设计体光栅。体光栅的设计指标有厚度,条纹周期、条纹倾角,基底材料及光折射率调整度。 所有这些参数都可以通过 GratingMaster 的数十种内置优化算法进行优化。在几分钟内, GratingMaster 就可以获得体光栅的最佳设计, 可用于任何有挑战性的体光栅的应用。
    2. 中文用户界面:
      1. 在 LigthSoft LLC, 我们正尽力满足全球客户的母语界面。这一全新的中文用户界面是 GratingMaster 的第二语言界面。其他语言的界面会按 客户的要求不断增加。
  • 主要改进功能:
    1. 大大提高了1D 倾斜光栅的优化速度, 达200倍。现在用户可以在几分钟内设计出倾斜的光栅。
    2. 改进了斜光栅的图形表示, 在主界面主视图中显示正确的比例。
    3. 对 GratingMaster 内的计算机穿线操作进行了大的调整, 大大提高了 GratingMaster 的稳定性。
  • Bug 修复。

GratingMaster® 2017d版本 发行说明

10/15/2017
  • 新的主要功能:
    1. 2D 光栅的切比雪夫 Chebyshev多项式编码:
      1. 这种新型的光栅轮廓编码方法可以有效地产生任意的2D 光栅轮廓, 这是经典的达曼光栅编码方法所无法实现的。因此, 它开启了无限可能的 meta-surface 研究领域, 2D 广角光束分配器设计应用于结构化光应用和新颖的偏振控制装置。
  • 次要的新功能:
    1. 添加新的菜单选项导出1D 和2D 光栅相位剖面作为 bmp 图像;
    2. 优化前自动保存文件。
  • Bug 修复。

GratingMaster® 2017c 版本发行说明

06/15/2017
  • 新的主要功能:
    1. 宏光栅功能:
      1. 分析和优化闪耀光栅 (三角形), 体光栅 (平行四边形) 和任意梯形形状的光栅;
      2. 分析任意用户定义的光栅轮廓, 可以通过用户函数或表格输入来定义配置文件。通过这种方法可以分析正弦光栅;
    2. 基于标量光栅理论的2维分束器设计。在适用的情况下, 优化速度将比基于 RCWA 的严格设计更快;
    3. 光栅级数3D 显示器, 以极大的灵活性来直观地显示衍射效率和衍射级数的空间位置;
    4. 输出 GratingMaster 设计光栅剖面/结构成 GDSII 文件格式。可以使用内置的 GDSII 查看器预览导出的 GDS 结构。
  • 主要改进功能:
    1. 进一步改进了2D 光栅的 RCWA 核 OpenMP 多线程性能;
    2. 添加一个高级源定义 GUI, 以便更灵活地定义圆锥入射源;
    3. 可变范围和初始值可以直接在光栅参数表中进行编辑。可以手动重写优化的值。
    4. 添加设计控制, 以控制所有定义光栅级数的衍射效率总和和均匀性;
    5. 在介质材料变量定义中添加对称控制。
  • 次要的新功能:
    1. 添加新的菜单选项, 以查看初始, 开始和优化光栅膜层;
    2. 添加随机介质几何图案产生, 主要为2D 分束设计介质轮廓定义增加了灵活性;
    3. 清除所有变量的优化值;
    4. 在黑色背景或白色背景之间切换颜色主题;
    5. 添加基于角度的用户函数: sind, cosd, tand。
  • Bug 修复。

GratingMaster® 2017b 版本 发行说明

04/10/2017
  • 新的主要功能:
    1. 近场计算: 计算详细的电场和磁场, 在1D光栅膜层内部和光栅的上层及基底内, 用于 TE、TM 和圆锥偏振;
    2. 薄膜和光子晶体设计中重复膜层的定义;
    3. 从以前保存的任何优化结果重新启动优化/反回变量;
    4. 光栅设计完成后的公差分析。
  • 主要改进功能:
    1. 重新实现输出级数控制定义的界面;
    2. 增强了撤消/重做功能;
    3. 改进了 RCWA 内核 OpenMP 多线程性能。
  • 次要的新功能
    1. 显示状态栏上的 CPU 和内存使用情况;
    2. 在 “帮助” 菜单中添加软件使用教程。
  • Bug 修复。

GratingMaster® 2017a 版本发行说明

01/30/2017
  • 新的主要功能:
    1. 3D RCWA 算法与 OpenMP 快速2D 光栅仿真设计的并行化
    2. 光源输入定义的改进, 现在用户可以选择均匀间隔波长或任意数量的特定波长;
    3. 在光栅膜层浏览器中添加了顶部视图和左视图, 以便更好地查看膜层结构, 特别是对于2D 光栅;
    4. 添加了撤消/重做功能;
    5. 对当前配置进行评估, 最多可进行两个源参数扫描, 如波长和入射角;
    6. 允许暂时禁用个别变量以进行更灵活的优化。
  • 新的次要功能:
    1. 极大更新了使用手册。
  • Bug 修复。